2026-01-15
褶皱可调MXene晶格:超薄电磁屏蔽材料的前沿突破
电子元器件向微型化、集成化快速发展,消费电子、可穿戴设备及先进通信系统对超薄电磁干扰(EMI)屏蔽膜需求迫切。传统块状屏蔽材料难以适配紧凑器件架构,而超薄膜在厚度降至微纳尺度时,因反射作用减弱导致屏蔽性能急剧下降。同时,航空航天、极地科考等极端环境对屏蔽材料的高效能与稳定性提出更高要求,MXene作为二维过渡金属碳化物/氮化物材料,虽具备优异导电性,但其超薄膜屏蔽性能提升仍受单一作用机制制约,成为亟待解决的技术瓶颈。
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